• Roll-To-Roll-Plasma 特性 专业的行进式纠偏控制,确保收料精度 
    恒张力,恒速度控制 
    等离子反应区单独隔离,保证等离子不影响其他机构 
    专利的等离子处理设备 
    专利的纠偏收料机构设计
  • Roll-To-Roll-Plasma
  • P15V-Plasma 特性  专利高效能产品设计 
     低耗能、低耗气产品 
     便捷的垂直收放板方式 
     合理的等离子反应空间,使处理更均匀 
     集成的控制系统设计,使操作更方便 
     真空系统集成,占地面积小
  • P15V-Plasma
  • P03Q-Plasma 特性  采用 13.56MHz 射频电源搭配自动网络匹配器 
     产品放置治具灵活多变,可适应不同形状的产品 
     产品放置平台可灵活移动,方便操作 
     极小的占地面积
  • P03Q-Plasma
  • P26H-Plasma 特性 水平电极设计,可满足软性产品处理需求 
    低耗能、耗气产品 
    便捷的收放板方式 
    合理的等离子反应空间,使处理更均匀 
    集成的控制系统设计,使操作更方便
  • P26H-Plasma
  • AP-JET-Plasma 特性  客制化移动轨道设计,可满足各种制程需求 
     零电势,不会损伤敏感结构 
     具有更高的表面张力,可显著改善涂层分散和粘接力 
     可将等离子技术集成到现有的涂装生产线中
  • AP-JET-Plasma
  • Inductively-Coupled-Plasma 特性  电感耦合式高密度等离子 
     采用旋转式台面设计 
     采用磁流体旋转密封技术 
     采用 13.56MHz 射频电源搭配自动网络匹配器
  • Inductively-Coupled-Plasma
  • Reactive-Ion-Etching-Plasma 特性  采用 13.56MHz 射频电源搭配自动网络匹配器 
     台面采用固定和旋转式设计
  • Reactive-Ion-Etching-Plasma